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LCDカラーフィルターとケミカルス 渡辺順次監修 CMC出版 (Liquid Crystal Display カラー液晶ディスプレイ
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商品詳細情報
| 管理番号 |
新品 ：84690161629
中古 ：84690161629-1 |
メーカー | 78ccc476 | 発売日 | 2025-04-17 19:50 | 定価 | 1200円 | ||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| カテゴリ | |||||||||
LCDカラーフィルターとケミカルス 渡辺順次監修 CMC出版 (Liquid Crystal Display カラー液晶ディスプレイ
4200円(税別)。2006年普及版１刷。
中古。表紙裏表紙に傷み汚れあり。他に書き込みや目立つ汚れなど無し(出品前に一通り確認していますが、見逃しがございましたらご容赦下さい)。。
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出版社紹介文
本書は、初めて発刊されるカラーフィルター技術の成書であり、周辺技術の展開を集約するものである。執筆者は、第一線の研究・開発に携わっている方々である。
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梱包について
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もくじ
第1章 総論
1 カラーフィルタ形成法の課題
1.1 はじめに
1.2 カラーフィルタの構造および要求特性
1.2.1 透明基板
1.2.2 ブラックマトリクス(BM)
1.2.3 カラーフィルタ層(CF)
1.2.4 保護膜
1.2.5 透明導電膜
1.3 カラーフィルターの各種製造法の課題
1.4 おわりに
2 カラーフィルターの分光特性
2.1 はじめに
2.2 色再現の方向
2.2.1 色再現に必要な物体の色度域
2.2.2 3原色と白色バランス
2.3 フィルタの分光特性
2.4 現在の光源用フィルタの改善方向
2.4.1 青フィルタ
2.4.2 緑フィルタ
2.4.3 赤フィルタ
2.5 フィルタとバックライト用光源の改善目標
2.5.1 フィルタの改善
2.5.2 光源の開発
2.5.3 消偏効果
2.6 おわりに
第2章 カラーフィルター形成法とケミカルス
1 染料溶解法
1.1 はじめに
1.2 製造方法
(1)色材塗布
(2) 色材プレベーク
(3) フォトレジスト塗布
(4) 露光・現像
(5) フォトレジスト剥離,ポストベーク
(6) 3色繰り返し
(7) オーバーコートを塗布
1.3 カラーフィルターの特性
(1) 分光特性およびコントラスト
(2) 染色フィルターとの差について
1.4 耐光性について
(1) 試験方法
(2) 染料の構造と耐光性の関係
(3) 濃度と耐光性の関係
(4) 染料カラーフィルターの耐光性向上
1.5 反射LCD用カラーフィルターへの応用
1.6 最後に
2 印刷法
2.1 平版オフセット印刷(オフセットと略)の製造工程
2.2 ガラス基板受け入れ
2.3 インキ製造
2.4 製版
2.5 印刷機
2.6 ブランケットの表面平坦化
2.7 印圧の均一化
2.8 その他
2.9 平坦化
2.10 おわりに
3 顔料分散法
3.1 概要
3.2 カラーフィルターの基本構成
3.3 顔料分散法カラーフィルター
3.3.1 着色感材法
3.3.2 顔料の微粒化と分散
3.4 今後の展望
3.5 まとめ
4 電着法・ミセル電解法
4.1 はじめに
4.2 電着法カラーフィルター
4.2.1 電着法の原理
4.2.2 電着法製造プロセス
4.2.3 電着法の特徴
4.2.4 電着法の課題
4.3 出光ミセル電解法カラーフィルター
4.3.1 基本原理
4.3.2 製造プロセス
4.3.3 ミセル電解カラーフィルターの特徴
4.4 C/F on TFTアレイへの応用
4.5 おわりに
5 着色フィルム(ドライフィルム)転写法
5.1 はじめに
5.2 TRANSER 転写材料
5.3 作製プロセス
(1) ラミネート工程
(2) 仮支持体剥離工程
(3) 露光工程
(4) 現像工程
(5) ブラックマトリックス作製
5.4 凹凸追従法
5.5 セルフアライメント法によるブラック画像の形成
(1) 黒色感光性転写材料について
(2) RGB画素の紫外線遮蔽性
5.6 その他の特徴
(1) 欠陥修正法
(2) 大サイズ化が可能
(3) その他の性能
5.7 最後に
6 次世代カラーフィルター形成法
6.1 はじめに
6.2 カラーフィルタ・オン・アレイ法
6.3 イオンプレーティング法
6.4 インクジェット法
6.5 レーザおよび焼き付け法
第3章 カラーフィルター形成用ケミカルスと色素
1 印刷法用ケミカルス
1.1 インキの製造
① 顔料および染料
② ビヒクル
③ 溶剤
④ その他の添加剤
⑤ インキの混練
1.2 インキの検定
① 粘度
② タッキネス
③ 顕微鏡観察
④ 耐熱性およびガスクロマトグラフ
⑤ 保存
2 顔料分散法用ケミカルス
2.1はじめに
2.2 顔料分散レジストの種類
(1)アクリル系ラジカル重合型
(2)水溶媒型
(3)ナフトキノンジアジド(NQD)感光剤型
(4)化学増幅型
2.3 アクリル系ラジカル重合型顔料分散レジストの構成
(1)顔料
(2)バインダー樹脂
(3)多価アクリル,光ラジカル発生剤
(4)溶剤,各種添加剤
2.3.1 BLACK レジスト
2.4 今後の課題
第4章 ブラックマトリックス形成法とケミカルス
1 Cr系BM形成法とケミカルス
1.1 概要
1.2 種類と特徴
1.3 形成法
1.4 Cr-BMの物性とケミカルス
1.5 Cr-BMの現状の課題と将来動向
1.6 まとめ
2 樹脂系BM形成法とケミカルス
2.1 樹脂系BMに対する要求特性
2.2 ポリイミド系材料によるBM形成
2.3 感光性樹脂BM材料
2.4 樹脂系BM材料の今後の課題
2.5 樹脂系BM材料
3 樹脂BM形成法(無電解めっきとケミカルス)
3.1 はじめに
3.2 無電解めっきによるBM形成
3.2.1 BMの要求特性
3.2.2 BMの分類
3.2.3 プロセスの概要
3.2.4 無電解NiめっきBMの特性
3.3 まとめ
3.4 最後に
4 黒鉛BM形成法とケミカルス
4.1 はじめに
4.2 黒鉛BMの分類と原理
4.2.1 黒鉛BMの分類
4.2.2 BM形成の原理
4.3 黒鉛BM塗料と材料
4.3.1黒鉛BM塗料
4.3.2黒鉛BM用黒鉛微粒子
4.3.3黒鉛BM用熱硬化性樹脂
4.4 黒鉛BMの形成法
4.4.1黒鉛BMリフトオフ法
4.4.2黒鉛BMエッチング法
4.5 黒鉛BMの特性
4.6 今後の展開
4.7 まとめ
第5章 保護膜形成法とケミカルス
1 概要
2 市場動向
3 保護膜の必要特性
4 保護膜の開発状況
第6章 レジスト塗布法
1 スリット&スピン方式
1.1 はじめに
1.2 従来塗布方式の課題と対策例
1.3 塗布装置「SF-700 /800 」
1.4「スリット&スピン」塗布方式
1.5「スリット&スピン」方式周辺技術
1.6 効果
1.7 今後の展開
2 エクストルージョン方式
2.1 はじめに
2.2 Fasコーターの基本原理
2.3 エッジビードの評価
2.4 基板の凹凸が膜厚に及ぼす影響
2.5 結論
第7章 大型カラーフィルターへのITO成膜技術
1 はじめに
2 低抵抗ITO/CF成膜技術
2.1 ITOの作製法
2.2要求特性と問題点
2.3低電圧スパッタ法
2.4低温成膜プロセス
2.5BMの補助配線効果
3 低反射BM成膜技術
3.1Cr系積層型BM膜
3.2脱CrスパッタBM膜
4 スパッタ装置
4.1 ITO用インライン装置
4.2 BM用インライン装置
5 おわりに
第8章 大型カラーフィルタの検査システム
1 検査システムの状況
2 カラーフィルタにおける主な欠陥の種類
3 検査方法について
3.1 1次元ラインイメージセンサを利用した欠陥検出
3.1.1 dei to dei検査
3.1.2 dei to database 検査
3.1.3 cell shift検査
3.2 レーザ散乱による欠陥検査
4 検査装置について
4.1基板サイズ
4.2透過検査(透過ヘッド)
4.3反射検査(反射ヘッド)
4.4 突起検査(散乱ヘッド)
4.5欠陥検出能力
4.6検査処理時間
5 カラーフィルタ製造ラインにおける検査システム
6 歩留まりの向上のために
7 突起欠陥修正装置について
8 今後の装置の研究・開発について
第9章 カラーフィルターの信頼・品質評価
1 分光透過率
2 消偏効果測定法
3 耐熱性試験法
4 耐光性試験法
5 耐薬品性測定法
6 CF表面の硬度と接着性測定法
7 白ボツと黒ボツ(ピンホール)
8 表面の平坦性測定法
9 パターン位置精度
10 おわりに
第10章 カラーフィルターの市場
1 カラーフィルターの市場動向
(1)カラーフィルター用顔料分散レジスト
(2)カラーフィルター用顔料,染料
(3)ブラックマトリクス材料
(4)オーバーコート剤
2 メーカー動向
(1)カラーフィルター
(2)カラーフィルター用顔料分散レジスト
(3)カラーフィルター用顔料,染料
(4)ブラックマトリクス用クロムターゲット
(5)ブラックマトリクス用黒色レジスト
(6)カラーフィルター用オーバーコート剤
第11章 カラーフィルターと関連ケミカルスの特許動向
1 カラーフィルターと関連ケミカルスの特許(1973～1994年)
1.1 カラーフィルター製造技術の分類
1.2 画素形成技術と特許の展開
(1)染色法
(2)印刷法
(3)顔料分散法
(4)電着法
(5)着色フィルム転写法
(6)ミセル電解法
(7)電子写真法
(8)インクジェット法
(9)染料分散法
(10)熱転写法
(11)ゾルゲル法
(12)カラー銀塩写真法
(13)蒸着法
(14)その他の形成法
1.3 画素形成用ケミカルスと特許の展開
(1)画素組成物の技術と特許の展開
(2)画素組成物特許の企業動向
(3)色素の技術と特許の展開
(4)色素特許の企業動向
1.4 画素以外の構成要素と特許の展開
(1)ブラックマトリクス(BM)
(2)保護膜
1.5 企業の特許展開
1.6 参考資料
2 最新('94～'96年)カラーフィルター特許,主要10社の動向
2.1 最新('94～'96年)カラーフィルター特許出願動向
2.2 主要10社の全分野出願件数と液晶関連カラーフィルター分野出願件数の推移
2.3 主要10社の94～96年の総出願件数と発明者総数および発明者リスト
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